这样的言辞，是出自张忠谋的高傲和短视。跟着国内打破13.5nm极紫外光源技能，让咱们正真看到了我国半导体工业界的蓬勃开展，也让张忠谋面临着被打脸的局势。

  极紫外光刻技能作为制作高端芯片不可或缺的一环，但一向被荷兰公司ASML长时间独占，更要害的是，它连出售设备的权力都要看美国脸色。

  不过哈工大此次的打破，意味着我国有了打造自家“雕刻刀”的底气，这不只仅技能上的打破，更是战略上的进击。

  至于张忠谋，之所以勇于宣布那样的言辞，很大程度上是因为他对商场改变的愚钝。

  人工智能、5G、物联网等新式技能的鼓起，对芯片的功能、功耗、集成度等提出了更高的要求。全球芯片供应链的格式也在产生深入改变。在这种状况下，大陆芯片工业凭仗其巨大的商场需求、完善的工业配套以及政府的全力支撑，敏捷兴起。

  但是张忠谋却未能及时洞悉这些改变，仍然沉溺在台积电曩昔的辉煌成就中，对大陆芯片工业的开展不以为然。

  从商业视点来看，张忠谋的言辞也缺少战略眼光。台积电作为一家全球闻名的芯片代工企业，本应活跃拓宽与大陆的协作，一起推进全球芯片工业的开展。但是，张忠谋的不妥言辞，不只伤害了大陆芯片工业从业者的爱情，也为台积电未来在大陆商场的开展埋下了危险。

  事实上，早在哈工大打破之前，我国的科研机构和企业在芯片制作范畴就现已获得了不少效果。这些效果并不是“单线研制”，而是像搭积木相同，衬托整个技能系统。这种“国家支撑+企业实践+高校探究”的联动形式，现已成了我国芯片技能兴起的取胜法宝。

  国内涵极紫外光刻光源技能上的实力，为后续的研制技能和工业使用奠定了坚实根底。与ASML选用的激光等离子体计划不同，哈工大的技能以“放电等离子体”为根底，在能量转化功率、造价和体积等方面表现出明显优势。

  要害是，能为国内EUV光刻机研制供给切实可行的途径，外国媒体报道这一音讯，并以为我国或许正逐渐添补EUV光刻机技能的空白。

  当然咱们也要清醒地认识到，光源技能的打破仅仅国产EUV光刻机研制的“榜首块拼图”。EUV光刻机作为全球尖端半导体设备，其杂乱程度远超一般的工业制作。

  除了极紫外光源，EUV光刻机还依赖于其他中心组件，比方微缩投影光学系统和双工件台技能，这些环节中的任何一项都代表着人类工业制作的极限。

  但是从现在的状况去看，我国现已具有了这样的实力和潜力。在微缩投影光学系统方面，长春光机地点高精度弧形反射镜和EUV多层膜技能上获得了重要打破。在双工件台技能方面，上海微电子与多家高校现已在相关范畴获得专利效果，逐渐缩小了与世界领先水平的距离。此外，清华大学和微电子地点掩膜光学系统的研制上也效果频出，为国产EUV光刻机供给了更完好的技能支撑。

  除了技能上的打破，我国还在光刻资料范畴完成了自主化。华中科技大学成功霸占了光刻胶生产技能，这一资料是光刻工艺中不可或缺的一环，成功打破了长时间以来被日本企业独占的局势。

  所以回过头来看，张忠谋的言辞之所以被打脸，是因为他轻视了我国人的立异才能和决计。欧美的封闭和制裁，不只没有阻挠咱们的科学技能进步，反而成为了我国技能打破的“催化剂”。

  最终我想说的是，科技竞赛历来都不是零和博弈，而是协作共赢。而张忠谋的言辞和情绪，是对这一理念的违背和歪曲。